Ayer, en plena gran manzana de Nueva York y con temperaturas bordeando los 0°C, el diseñador chileno y ganador de la tercera temporada de Project Runway Latinoamérica, Matías Hernán, presentó su colección cápsula para la marca de impresoras Epson, en el Digital Couture Project 2016. El evento se enmarca como previa a las pasarelas femeninas de la temporada Otoño/Invierno del New York Fashion Week y contó con la presencia de otros 10 diseñadores. ¿El objetivo? Mostrar los avances de nuevas técnicas en impresión textil por sublimación y apoyar el potencial creativo de una representativa selección de diseñadores del continente. Leer Más
