Hoy les informamos quién fue el afortunado ganador del concurso Intech que publicamos la semana pasada:
La persona que respondió con la mejor respuesta sobre las carencias de la malla curricular de diseño de vestuario en Chile acaba de ganar un cupo en el curso de Desarrollo de Colecciones que organiza el Instituto Textil de Chile (INTECH A.G). Desde el 29 de marzo al 31 de abril, el ganador podrá asistir a este curso, que será realizado por la directora del DUOC Marie Anne Lama.
Felicitaciones a Aschch!
Te mandaremos un mail a la brevedad para informarte sobre los detalles que implicados.
Gracias a todos por participar, da gusto ver que se interesan por el estudio de esta carrera y sus necesidades.
