Una exploración en los puntos donde convergen y divergen arte y moda, a través de ponencias de artistas y diseñadores de moda contemporáneos de nuestro país, es lo que se llevará a cabo en el Museo de Arte Contemporáneo (MAC) del Parque Forestal, entre el próximo 25, 26 y 27 de mayo. El encuentro buscará abrir las puertas del museo a todos quienes quieran aprender y ser parte de este primer seminario de moda y arte, donde las actividades serán completamente gratuitas y sin la necesidad de inscribirse previamente.
Organizado por el artista y académico, Alexis Carreño, quien también es PhD en Historia del Arte de la State University of New York —doctorado que lo llevó a ser parte del equipo de trabajo del Museo del Instituto Tecnológico de la Moda (FIT), para luego debutar como curador de la exhibición “Folk Couture: Fashion and Folk Art” en el American Folk Art Museum— el Seminario Arte/Moda: Intersecciones contará con tres jornadas de ponencias y workshops con importantes referentes de la escena nacional.
Presentadores del seminario:
AdeAntonio – Rodrigo Bruna – Jorge Castañón – Juana Díaz – Ropa Doceñada – Manuel Figueroa – Nury González – Maite Lobos – Loreto Monsalve – Pía Montalva – Pablo Núñez – Cristóbal Portaluppi – Alejandra Prieto – Noli Provoste – SISA – Rocío Troc – Constanza Urrutia – Francisca Román – Walka – Ximena Zomosa
La clase magistral inaugural se llevará a cabo el miércoles 25 de mayo, a partir de las 17 hrs., y estará a cargo de la historiadora Pía Montalva, quien es actualmente jefa del Área de Historia Política en la Biblioteca del Congreso Nacional y autora de los libros “Morir un Poco: Moda y Sociedad en Chile 1960-1976” y “Tejido Blandos. Indumentaria y violencia política en Chile, 1973-1990”.
Además de las ponencias que se desarrollarán en MAC de Parque Forestal, en forma paralela se desarrollará un workshop para estudiantes del Departamento de Arte de la Universidad de Chile, a cargo de Jorge Castañon, y entre el 23 de mayo y 3 de junio se presentará la exposición Fashion Films en la Sala Juan Egenau, también del Departamento de Artes Visuales de la Universidad de Chile.
El seminario es de acceso gratuito, sin inscripción. Cupos limitados, por orden de llegada.
Haz click aquí para ver la programación en grande.
Imagen flyer: Cortesía de SISA, estudio de moda. Abrigo de lana y una blusa de algodón pima. F/W 2013. Foto: Ignacio Santa María. Arte: IV Estudio / SISA. Maquillaje: Maida Cardemil. Modelo: Cristine WLM
